李东三——北京市劳动模范

资深的技术人员,北方微电子企业刻蚀机项目负责人,他在半导体装备研发道路上的足迹,跨越了从“八五”到“十二五”的历程。

打造民族的优秀品牌,是他内心的使命和情怀。他刻苦攻关,努力钻研,奋勇争先,持之以恒,和同事们齐心协力,取得一次次突破,获得了一项项成果。“100nm高密度等离子刻蚀机”项目用3年多的时间进行四代具有自主常识产权的刻蚀研制,使我国刻蚀设备研制水平跨越5个技术代;“90/65nm刻蚀机研发与产业化”项目提高了我国集成电路关键设备的技术水平;“32-22nm栅刻蚀机产品研发及产业化”项目使产品达到国际同等设备水平,部分指标优于竞争对手的产品;“14nm立体栅刻蚀机研发及产业化”项目达到国际大生产线最先进的技术水平,将实现我国的刻蚀机水平与国际处于同一技术代,是刻蚀机技术一个里程碑。

李东三说,蓝图已经绘就,发展只争朝夕,市场形势紧迫,感受到压力的同时,也给了大家巨大的动力,我相信大家产品一定会突出重围,走向国际舞台。

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